Ústav fyzikálního inženýrství - obor Fyzikální inženýrství a nanotechnologie Ústav fyzikálního inženýrství - obor Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
ÚFI 
ÚFI
Výuka
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
3. ročník, I. stupeň

   Příprava nízkodimenzionálních struktur


Vyhledávání

 

Vyhledávání osob

 

Klikněte na tlačítko Najdi ..

Mapa serveru

Odkazy:

OSA (the Optical Society) Student chapter of Czech Republic

ÚFI/Výuka/Fyzikální inženýrství a nanotechnologie/3. ročník, I. stupeň/Příprava nízkodimenzionálních struktur     

Příprava nízkodimenzionálních struktur

Program přednášek/cvičení pro letní semestr 2018:

  • Introduction (T. Šikola), 6.2.1018

  •  Surface and deposition processes (velikost 3.55 MB) (J. Čechal), 13.2.2018 Lecture provides introduction to nucleation and thin film growth: interplay of thermodynamics and kinetics, surface diffusion/flux ratio, atomic description, rate equations, island shape and size, surface free energy, enthalpy of formation of oxide, Ostwald ripening, adsorbate/substrate interaction.

  •  Magnetron/Ion Beam sputtering, evaporation (velikost 2.39 MB) (J. Arregi), 20.2.2018 This lecture will focus on different thin film growth strategies, ranging from evaporation to sputtering techniques. Special emphasis will be given to the topic of epitaxial films and heterostructures. The role of these deposition techniques on current technology, such as in semiconductor multilayer structures and magnetic recording media, will be sketched.

  •  Molecular beam epitaxy (velikost 2.67 MB) (M. Kolíbal), 27.2.2018 Physics of growth of one-dimensional structures will be explained (self-induced growth, catalyzed growth, selective area epitaxy). Techniques for nanowire growth will be explained, with focus on molecular beam epitaxy and, also, a little introduction to CVD will be given.

  •  Chemical Vapor Deposition (velikost 9.9 MB) (P. Kostelník), 6.3.2018

  •  Atomic Layer Deposition (velikost 2.13 MB) (M. Kolíbal), 13.3.2017 The lecture will provide a brief overview of technology used in semiconductor industry. Most important technological landmarks will be introduced, with emphasis on Atomic Layer Deposition.

  •  Lithography (velikost 3.89 MB) (V. Uhlíř), 20.3.2018

  •  Focused Particle Beam enhanced lithography (velikost 7.17 MB) (T. Šamořil), 27.3.2018 This lecture will focus on following points:interactions of primary ions with condensed matter, focused ion beam system technology, micro- and nanofabrication, focused ion beam induced processes and general and special applications of FIB

  •  Principles of Self-assembly and guided growth (velikost 41.26 MB) (J. Čechal), 3.4.2018

  •  Composition of low dimensional structures (velikost 13.75 MB) (P. Bábor), 10.4. 2018 The lecture will focus on the principles, advantages and disadvantages of dynamic Atomic Force Microscopy and Kelvin Probe Force microscopy techniques for studying low dimensional structures.

  •  Pulsed Laser Deposition (velikost 8.33 MB) +  notes (velikost 6.45 MB) (U. Diebold/M. Riva), 17.4.2018

  •  Structure of low dimensional structures (velikost 6.16 MB) (J. Arregi), 24.4.2018 A general overview on the structural analysis tools of thin films and nanostructures will be given, including x-ray diffraction, spectroscopic ellipsometry, SEM/TEM, etc.

© 2003 designed by RAW4U

PDVisual    Vysoké učení technické v Brně, Fakulta strojního inženýrství     Admin    Mapa serveru