T. Šikola: Ústav fyzikálního inženýrství a CEITEC – čas vzájemného ponávání a přizpůsobování, Jemná mechnika a optika 6 (2013),167.

L. Břínek, P. Dvořák, T. Neuman, T. Šamořil, P. Dub, R. Kalousek, T. Šikola: Aplikace rastrovací optické mikroskopie v blízkém poli pro plasmoniku, Jemná mechnika a optika 6 (2013),169.

Z. Lišková, P. Procházka, M. Bartošík, J. Mach, M. Urbánek, M. Ledinský, A. Fejfar, T. Šikola: Metody charakterizace grafenu, Jemná mechnika a optika 6 (2013),184.

D. Šulc, P. Wertheimer, M. Páleníček, L. Válek, T. Šikola: Zařízení pro analýzu přemíkových desek, Jemná mechnika a optika 6 (2013),187.

Z. Nováček, M. Pavera, J. Neuman, T. Šikola, Jemná mechnika a optika 6 (2013),190.

M. Urbánek, J. Spousta: Magnetické víry přicházejí, Čes. Čas. Fyz. 63 (2013), 211.

L. Břínek, Z. Édes, P. Dvořák, T. Neuman, T. Šamořil, R. Kalousek, P. Dub, P. Varga, T. Šikola: Interference povrchových plazmonů v blízkém poli, Čes. Čas. Fyz. 63 (2013), 235.

2010

J. Mach, M. Potoček, M. Kolíbal, T. Šikola: Konstrukce a aplikace disociačního termálního zdroje atomů vodíku, Jemná mechanika a optika 55 (6) (2010), 163.

2009

P. Bábor, R. Duda, S. Průša, T. Matlocha, M. kolíbal, R. Kalousek, J. Neuman, M. Urbánek, T. Šikola: Mechanika iontů jako prostředek k analýze nanosvěta, Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 209.

J. Polčák, P. Bábor, J. Čechal, T. Šikola: Manipulátor vzorku pro rentgenovou fotoelektronovou spektroskopii do velmi vysokého vakua, Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 215.

M. Potoček, P. Bábor, T. Šikola: Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace, Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 217.

D. Škoda, R. Kalousek, O. Tomanec, M. Bartošík, L. Břínek, L. Šustr, T. Šikola: Studium optických vlastností nanostruktur pomocí mikroskopie blízkého pole, Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 219.

J. Čechal, J, Polčák, O. Tomanec, T. Šikola: Řízený růst kobaltových ostrůvků na křemíkovém substrátu, Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 222.

J. Spousta, J. Zlámal, M. Urbánek, T. Běhounek, R. Plšek, R. Kalousek, T. Šikola: Citlivostní analýza vyhodnocování optických parametrů tenkých vrstev (aneb jaké jsou naše šance získat věrohodný výsledek fitováním spekter odrazivosti), Jemná mechanika a optika 54 (7–8) (2009), 225.

2008

J. Spousta: Malé velké velké věci aneb příprava a analýza nanostruktur v laboratořích Ústavu fyzikálního inženýrství FSI VUT v Brně, Čes. čas. fyz., 58(2) (2008), 87.

R. Plšek, V. Uhlíř, M. Urbánek, J. Spousta, T. Šikola: Měření magnetických vlastností tenkých vrstev pomocí magnetooptického Kerrova jevu, Jemná mechanika a optika 52(6) (2008), 184.

O. Tomanec, T. Hrnčíř, L. Lovicar, L. Šustr, L. Břínek, R. Kalousek, R. Chmelík, J. Spousta, T. Šikola: Studium vlastností mikro- a nanostruktur v oblasti plazmoniky na Ústavu fyzikálního inženýrství FSI VUT v Brně, Jemná mechanika a optika 52(6) (2008), 187.

2006

J. Spousta, M. Urbánek, R. Chmelík, T. Běhounek, R. Plšek, T. Šikola, K. Navrátil: Vývoj zařízení k in-situ stanovení rozložení tlouštěk vrstev pomocí UV–VIS zobrazovací reflektometrie, Jemná mechanika a optika 9 (2006), 239

2005

P. Jánský, B. Lencová, J. Zlámal: Optimalizace optiky elektronové svářečky, Jemná mechanika a optika, 50 (2005), p. 46

2004

E. Brandejsová, J. Čechal, O. Bonaventurová – Zrzavecká, A. Nebojsa, P. Tichopádek, M. Urbánek, K. Navrátil, T. Šikola, J. Humlíček: In situ analysis of PMPSi thin films by spectroscopic ellipsometry, Jemná mechanika a optika, 9 (2004), p. 260 – 262.

M. Kolíbal, S. Průša, P. Bábor, T. Šikola: Low energy ion scattering as a method for surface structure analysis, Jemná mechanika a optika, 9 (2004), p. 262 – 265

S. Voborný, J. Mach, J. Čechal, P. Kostelník, O. Tomanec, P. Bábor, J. Spousta, T. Šikola: Application of complex UHV Apparaturus in a Study of Low-temperature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth, Jemná mechanika a optika, 9 (2004), p. 265 –269

2003

T. Šikola: Nanotechnologie – vize či skutečnost?, Čes. čas. fyz., 2 (2003), p. 70

Radek Kalousek, David Škoda, Filip Lopour a Tomáš Šikola: Simulace zobrazení povrchů pomocí bezkontaktní metody AFM, Čes. čas. fyz., 2 (2003), p. 89

David Škoda, Filip Lopour, Radek Kalousek, David Burian, Jiří Spousta, František Matějka a Tomáš Šikola: Aplikace AFM v oblasti přípravy a studia nanostruktur, Čes. čas. fyz., 2 (2003), p. 105

M. Urbánek, J. Spousta, K. Matějka, M. Buček, P. Neugebauer, T. Šikola: Systém pro měření homogenity optických vlastností tenkých vrstev, Jemná mechanika a optika, 48(6) (2003), p. 163

P. Bábor, T. Šikola: Zobrazení iontovým svazkem a 2D SIMS, Jemná mechanika a optika, 48(6) (2003), p. 178

2002

T. Šikola, F. Lopour, R. Kalousek, D. Škoda, P. Bábor, V. Buš, J. C. C. Duarte: Application of SPM in surface studies and nanotechnology, Jemná mechanika a optika, 6 – 7 (2002), s. 210 – 213

2001

F. Lopour, R. Kalousek, D. Škoda, T. Šikola: Vývoj a aplikace zařízení pro UHV SPM, Čes. čas. fyz., 51(1) (2001), s. 33 – 37

F. Matějka, J. Matějková, F. Lopour: Možnosti testování metriky přístrojů STM a AFM, Čes. čas. fyz., 51(1) (2001), s. 38 – 42

R. Kalousek, F. Lopour, P. Dub, T. Šikola: Fyzikální principy a limity rozlišení bezkontaktní metody AFM – simulace oscilací raménka, Čes. čas. fyz., 51(1) (2001), s. 43 – 48

F. Lopour, R. Kalousek, D. Škoda, T. Šikola: Vývoj a aplikace zařízení pro UHV SPM, Jemná mechanika a optika, 4 (2001), s. 133 – 135

P. Tichopádek, A. Nebojsa, J. Čechal: Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů, Jemná mechanika a optika, 4 (2001), s. 136 – 139

M. Urbánek, J. Spousta, T. Šikola, J. Zlámal, R. Chmelík, Z. Harna, J. Jiruše, M. Jákl: In situ plošné monitorování optických parametrů tenkých vrstev, Jemná mechanika a optika, 4 (2001), s. 143 – 145

1999

J. Spousta, T. Šikola, R. Chmelík, Z. Harna, M. Jákl, J. Zlámal, J. Jiruše, M. Urbánek, K. Kollarčík, A. Nebojsa: Zařízení pro in situ monitorování plošné homogenity tenkých neabsorbujícíh vrstev, Jemná mechanika a optika, 11–12 (1999), s. 355 – 358

1996

zpět